单晶硅标样（放大倍数）

单晶硅标样-10μm间距

Silicon Test Specimen

用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10µm，线宽1.9µm，通过电子束印刷技术形成。每隔500µm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品台。许多类型的样品可以直接安装在硅标样上，以便在图像中获得内部校准。 

随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证精度为1％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。